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Qualità Spin Coater a stazione singola per laboratori di ricerca e sviluppo ️ Design compatto con velocità personalizzabile fino a 12.000 giri al minuto fabbrica
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Qualità Spin Coater a stazione singola per laboratori di ricerca e sviluppo ️ Design compatto con velocità personalizzabile fino a 12.000 giri al minuto fabbrica
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Spin Coater a stazione singola per laboratori di ricerca e sviluppo ️ Design compatto con velocità personalizzabile fino a 12.000 giri al minuto

Spin Coater a stazione singola per laboratori di ricerca e sviluppo ️ Design compatto con velocità personalizzabile fino a 12.000 giri al minuto
Spin Coater a stazione singola per laboratori di ricerca e sviluppo ️ Design compatto con velocità personalizzabile fino a 12.000 giri al minuto Questo...con una capacità di accumulo di calore inferiore o uguale a 50 Wè progettato per la deposizione precisa di film sottili su substrati quali wafer ...
Place of Origin:Cina
Brand Name:OSMANUV
Certification:ISO9001
Model Number:Specifica
Minimum Order Quantity:1 insieme
Price:Negoziabile
Product Custom Attributes
Evidenziare

con una superficie di superficie inferiore o uguale a 20 m2

,

con un'unità di accensione superiore a 50 mm

,

Spin coater con velocità personalizzabile

Tipo di applicazione:
Industriale
Dimensioni della macchina:
5000mm*2000mm*2000mm
Velocità massima:
1000 fogli/h
Efficienza del rivestimento:
Alta efficienza
Interfaccia di controllo:
Un touchscreen in nylon da 7 pollici
Lunghezza di asciugatura:
24 m
stazione:
24 Stazione
Dimensioni della macchina:
Lunghezza 3000 mm x Larghezza 1500 mm x Altezza 1800 mm
Product Description
Spin Coater a stazione singola per laboratori di ricerca e sviluppo ️ Design compatto con velocità personalizzabile fino a 12.000 giri al minuto
Questo...con una capacità di accumulo di calore inferiore o uguale a 50 Wè progettato per la deposizione precisa di film sottili su substrati quali wafer di silicio, vetrate e film polimerici.Ricerca e sviluppo su banco,piastra calda integrata, eprecisione ad alta velocitàIl sistema èCompletamente personalizzabilein dimensioni del manico, intervalli di velocità di rotazione, profili di rampa di accelerazione e materiale della ciotola.fabbricazione di celle solari a perovskite in laboratori di ricerca e linee di produzione pilotaIl design compatto consente di risparmiare un prezioso spazio di banco, garantendo allo stesso tempo una eccezionale stabilità della velocità (flutuazione < ± 1%) e un funzionamento a bassa vibrazione.
Parametri tecnici
Parametro Modello di ricerca e sviluppo di base Modello di piastra calda integrata Modello di precisione ad alta velocità
Intervallo di velocità di rotazione (personalizzabile) 100 - 12.000 giri/min 300 - 10.000 giri al minuto 500 - 15.000 giri/min
Accuratezza della velocità ± 1 giri al minuto ± 1 giri al minuto ±0,5 giri/min (servomotore)
Controllo dell'accelerazione 100 - 10.000 giri/s Programmabile in più passaggi 1 - 50.000 giri/s
Dimensione del substrato (personalizzabile) Fino a 150 mm (6") fino a 200 mm (8") fino a 200 mm (8")
Intervallo di temperatura (facoltativo) N/A Ambiente - 300°C N/A (coperchio di riscaldamento opzionale)
Precisione della temperatura N/A ± 1°C N/A
Passi del programma 10 programmi, 20 passaggi ciascuno Fino a 50 ricette Programmabile illimitato
Sistema a vuoto Interfaccia integrata della pompa Scavo integrato + pompa < 10−4 Torr (opzione turbo)
Materiale della ciotola (personalizzabile) Polipropilene (PP) Acciaio inossidabile, rivestimento in PTFE PTFE / acciaio inossidabile 316L
Visualizzazione 4.3" LCD schermo touchscreen a colori da 7" schermo touchscreen HMI da 7"
Porta di scarico Ø50 mm posteriore Ø110 mm Ø110 mm (due porte facoltative)
Fornitore di alimentazione 110/220V, 50/60Hz 220V, 50/60Hz 220V/380V, 50/60Hz
Dimensioni (circa) 350 × 300 × 250 mm 450 × 350 × 250 mm 600 × 500 × 400 mm
Peso ~ 15 kg ~ 22 kg ~ 35 kg
Applicazioni
  • Semiconduttori e MEMS: rivestimento fotoresistente su wafer di silicio, litografia a fascio elettronico
  • Optoelettronica: OLED, pellicole sottili dot quantum, rivestimenti antiriflesso
  • Scienze dei materiali: Deposito sol-gel, vetro spin-on (SOG), film di nanoparticelle
  • Biotecnologie: fabbricazione di biosensori, rivestimento di dispositivi microfluidici
  • Energia rinnovabile: celle solari di perovskite, fotovoltaiche a pellicola sottile
  • Industria ottica: Rivestimento rigido della lente (con opzione di indurimento UV)
Opzioni di personalizzazione
  • Disegno e dimensioni del tubo: Macchine a vuoto su misura per substrati rotondi (fino a 12"/300 mm) o quadrati/ rettangolari
  • Intervallo di velocità di rotazione: estensibile fino a 15.000 giri/min per applicazioni a pellicola ultra-sottile (spessore < 10 nm)
  • Profili della rampa di velocità: curve di accelerazione/rallentamento personalizzabili per il controllo delle perline
  • Materiale della ciotola: Polipropilene (PP), PTFE, acciaio inossidabile 316L - personalizzabile per la resistenza ai solventi
  • Integrazione della temperatura: piastra di riscaldamento integrata (fino a 300°C) o copertura di riscaldamento rimovibile (fino a 150°C)
  • Sistema di distribuzione: Seringa manuale, pompa di misurazione semiautomatica o distribuzione automatica completamente programmabile
  • Configurazione dei gas di scarico: doppia porta posteriore / sinistra / destra - personalizzabile
  • Tipo di motore: motore DC senza spazzole o servomotore ad alta precisione
  • Software: gestione delle ricette, visualizzazione in tempo reale della curva di velocità, esportazione di dati CSV
  • Compatibilità in camera pulita: classe 10-100.000 con opzione di flusso laminare
  • Caratteristiche di sicurezza: blocco del coperchio, arresto di emergenza, depurazione dell'azoto
Caratteristiche chiave
  • Alta precisione: stabilità della velocità < ± 1% di fluttuazione per spessore uniforme della pellicola
  • Progettazione a bassa vibrazione: motore a corrente continua o servomotore senza spazzole per la lavorazione di substrati sensibili
  • Ciotola resistente alle sostanze chimiche: rivestimento in acciaio inossidabile o in PTFE per solventi aggressivi
  • Ricette programmabili: Profili di velocità e accelerazione in più fasi per processi di rivestimento complessi
  • Cambio rapido: Sostituzione di perno senza utensili per diverse dimensioni di substrato
  • Blocco di sicurezza: arresto automatico quando il coperchio viene aperto durante il funzionamento
  • Esportazione di dati: porta USB per il backup delle ricette e la registrazione dei dati di processo
  • Impatto compatto: La progettazione del bancone consente di risparmiare prezioso spazio di laboratorio
  • Capacità di duplice utilizzo: piastra calda opzionale per l'integrazione pre-fresco e post-fresco
Supporto e servizi
  • Consulenza di processo gratuita e collaudo dei materiali (inviateci i vostri substrati)
  • Guida all'installazione e video di taratura inclusi
  • Risoluzione remota dei problemi entro 24 ore
  • Garanzia di 18 mesi per motore e controller, 12 mesi per accessori
  • Disponibilità di ricambi presso magazzini locali (USA/UE/Asia)
  • Formazione in loco (disponibile per pacchetti di supporto personalizzabili)
  • Supporto tecnico per tutta la vita via e-mail, telefono o videochiamata
Imballaggio e spedizione.

Imballaggio: schiuma antistatica + custodia in compensato rinforzato (con essiccante per componenti sensibili all'umidità)

Dimensioni (standard): Cartone da 55x45x45 cm.

Trasporti marittimi: FOB Shanghai / CIF via mare, aerea o ferroviaria

Tempo di consegna: 7-15 giorni per le unità standard; 20-30 giorni dopo la conferma della personalizzazione (le confezioni personalizzate richiedono più tempo)

Personalizzabile: Imballaggio per l'esportazione, etichettatura per la spedizione a domicilio e documentazione disponibili

Domande frequenti
Q1: Qual è la dimensione massima del substrato che questo rivestimento può gestire?
R: I modelli standard gestiscono fino a 150 mm (6") o 200 mm (8") di diametro.personalizzabileChuck Designs.
D2: Posso utilizzare questo rivestimento a rotazione per substrati non rotondi (ad esempio, vetrate rettangolari)?
R: Sì.personalizzabileper i substrati quadrati, rettangolari e di forma irregolare.
Q3: Qual è l'uniformità tipica dello spessore della pellicola?
R: Con una corretta ottimizzazione del processo, l'uniformità dello spessore può raggiungere <3% su un wafer di 150 mm. I risultati variano a seconda della viscosità del materiale e dei parametri di rotazione - offriamo test di laboratorio gratuiti per confermare.
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